フォトレジスト

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:40; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版

フォトレジスト【Photo-resist】

 LSIフォトエッチング工程で,パターン形成に用いる感光性樹脂.光(エネルギ)が当たったところが現像液に対して不溶性になるタイプをネガ形,この逆に照射部分が可溶性になるタイプをポジ形という.現像後,この後のエッチング工程におけるレジスト(耐食性皮膜)となる.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

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