フォトレジスト【Photo-resist】 LSIフォトエッチング工程で，パターン形成に用いる感光性樹脂．光（エネルギ）が当たったところが現像液に対して不溶性になるタイプをネガ形，この逆に照射部分が可溶性になるタイプをポジ形という．現像後，この後のエッチング工程におけるレジスト（耐食性皮膜）となる． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
