フォトレジスト
出典: くみこみックス
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最新版
フォトレジスト【Photo-resist】
LSIフォトエッチング工程で，パターン形成に用いる感光性樹脂．光（エネルギ）が当たったところが現像液に対して不溶性になるタイプをネガ形，この逆に照射部分が可溶性になるタイプをポジ形という．現像後，この後のエッチング工程におけるレジスト（耐食性皮膜）となる．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
