ドライ・エッチング

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:40; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版

ドライ・エッチング【Dry Etching】

 プラズマなどによるガス反応を利用したエッチング.反応が制御しやすいため,エッチング後の形状制御性が良い.高集積化やパターンの微細化,製造工程の自動化が進み,環境問題に注目が集まっていることから,現在のエッチングはドライ・エッチングが主流となっている.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

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