ドライ・エッチング【Dry Etching】 プラズマなどによるガス反応を利用したエッチング．反応が制御しやすいため，エッチング後の形状制御性が良い．高集積化やパターンの微細化，製造工程の自動化が進み，環境問題に注目が集まっていることから，現在のエッチングはドライ・エッチングが主流となっている． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
