酸化【Oxidation】 シリコン・ウェハ（基板）などの上にSiO2（酸化膜）を形成する工程．実際には，基板のシリコンと酸素が反応し，シリコン基板を侵食する形で形成する．酸化膜は配線間の絶縁膜や，MOSFETでのゲート絶縁膜として，また拡散，イオン注入などのマスキング材料として使用される． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
