酸化

出典: くみこみックス

酸化【Oxidation】

 シリコン・ウェハ(基板)などの上にSiO2(酸化膜)を形成する工程.実際には,基板のシリコンと酸素が反応し,シリコン基板を侵食する形で形成する.酸化膜は配線間の絶縁膜や,MOSFETでのゲート絶縁膜として,また拡散,イオン注入などのマスキング材料として使用される.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

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