ドライ・エッチング
出典: くみこみックス
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【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
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2009年3月13日 (金) 07:40の版
ドライ・エッチング【Dry Etching】
プラズマなどによるガス反応を利用したエッチング．反応が制御しやすいため，エッチング後の形状制御性が良い．高集積化やパターンの微細化，製造工程の自動化が進み，環境問題に注目が集まっていることから，現在のエッチングはドライ・エッチングが主流となっている．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
