酸化
出典: くみこみックス
版間での差分
M (1 版) |
|||
| 6 行 | 6 行 | ||
<br> | <br> | ||
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
| - | + | <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> | |
<br> | <br> | ||
<br> | <br> | ||
2009年3月13日 (金) 07:40の版
酸化【Oxidation】
シリコン・ウェハ（基板）などの上にSiO2（酸化膜）を形成する工程．実際には，基板のシリコンと酸素が反応し，シリコン基板を侵食する形で形成する．酸化膜は配線間の絶縁膜や，MOSFETでのゲート絶縁膜として，また拡散，イオン注入などのマスキング材料として使用される．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
