ドライ・エッチング
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ドライ・エッチング【Dry Etching】
プラズマなどによるガス反応を利用したエッチング.反応が制御しやすいため,エッチング後の形状制御性が良い.高集積化やパターンの微細化,製造工程の自動化が進み,環境問題に注目が集まっていることから,現在のエッチングはドライ・エッチングが主流となっている.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.