フォトマスク
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| + | LSI製造の露光工程で用いられるLSI回路パターン・レイアウトの原版．最近のサブミクロン・デバイス用フォトマスクは，EB（electron beam）露光装置などによって製造されている．超微細構造のLSI向けとして，エキシマ・レーザやX線対応のマスク，あるいは位相シフト・マスクなどがある． | ||
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| + | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
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| + | == 関連項目 == | ||
| + | * [[位相シフト・マスク]] | ||
| + | * [[フォトリソグラフィ]] | ||
| - | [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:FPGA]] | + | [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:FPGA]] [[Category:LSI]] |
最新版
フォトマスク 【Photo-mask】
LSIやディスプレイの回路パターンを形成した原版をフォトマスクと呼びます．これは透明なガラス基板上にクロムなどの光を通さない素材でパターンを形成したもので，半導体露光装置によって写真のネガ・フィルムのようにシリコン・ウェハ上に設計パターンを転写します．シリコン・ウェハにはフォトレジストと呼ばれる感光剤が塗布され，フォトマスク露光装置によってパターンが描画されます．
【出典】（株）アルティマ 技術統括部 一同，下馬場 朋禄，山際 伸一，横溝 憲治；システム開発者のためのFPGA用語集，Design Wave Magazine 2008年12月号 別冊付録，CQ出版社，2008年12月．
LSI製造の露光工程で用いられるLSI回路パターン・レイアウトの原版．最近のサブミクロン・デバイス用フォトマスクは，EB（electron beam）露光装置などによって製造されている．超微細構造のLSI向けとして，エキシマ・レーザやX線対応のマスク，あるいは位相シフト・マスクなどがある．
図 フォトマスク製造工程
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
