フォトエッチング【Photoetching】 LSI製造工程で，フォトレジスト現像後，レジスト・パターンにより形成された酸化膜などのマスキングによって，シリコン，アルミ配線などを食刻して除去し，所望のパターンを形成すること． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
