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出典: くみこみックス

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フォトレジスト【Photo-resist】 <br> <br> 　LSIフォトエッチング工程で，パターン形成に用いる感光性樹脂．光（エネルギ）が当たったところが現像液に対して不溶性になるタイプをネガ形，この逆に照射部分が可溶性になるタイプをポジ形という．現像後，この後のエッチング工程におけるレジスト（耐食性皮膜）となる． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> == 関連項目 == * [[フォトリソグラフィ]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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