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出典: くみこみックス

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酸化【Oxidation】 <br> <br> 　シリコン・ウェハ（基板）などの上にSiO2（酸化膜）を形成する工程．実際には，基板のシリコンと酸素が反応し，シリコン基板を侵食する形で形成する．酸化膜は配線間の絶縁膜や，MOSFETでのゲート絶縁膜として，また拡散，イオン注入などのマスキング材料として使用される． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般|サンカ]] [[Category:LSI|サンカ]]

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