EB露光装置

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 03:00; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版
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EB露光装置(Electron Beam Exposure System)

 電子ビームによって,CAD装置からのパターン・データを描画する装置.フォトマスク作成に用いる場合と,ウェハに直接描画する場合がある.描画方式には,すべての描画領域を走査するラスタ・スキャン方式,描画領域の必要な部分のみに矩形データなどを照射するベクタ・スキャン方式などがある.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.



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