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出典: くみこみックス

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EB露光装置（Electron Beam Exposure System） <br> <br> 　電子ビームによって，CAD装置からのパターン・データを描画する装置．フォトマスク作成に用いる場合と，ウェハに直接描画する場合がある．描画方式には，すべての描画領域を走査するラスタ・スキャン方式，描画領域の必要な部分のみに矩形データなどを照射するベクタ・スキャン方式などがある． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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