CVD

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:38; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版

CVD(Chemical Vapor Deposition)

 シリコン・ウェハなどの半導体基板上への薄膜形成工程で,気体を熱分解したり,化学反応させて,デポジション(堆積)する方法.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.



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