CVD
出典: くみこみックス
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CVD（Chemical Vapor Deposition）
シリコン・ウェハなどの半導体基板上への薄膜形成工程で，気体を熱分解したり，化学反応させて，デポジション（堆積）する方法．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
- 最終更新 2009年3月13日 (金) 07:50
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