遠紫外線リソグラフィ

出典: くみこみックス

版間での差分
M (1 版)

2009年3月13日 (金) 07:49の版

遠紫外線リソグラフィ【Deep Ultraviolet Lithography】

 deep UV光源(200nm~300nmの波長領域)の露光装置を用いて,フォトマスク・パターンを転写するフォトリソグラフィ技術.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

関連項目

表示