遠紫外線リソグラフィ

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【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
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<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
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最新版

遠紫外線リソグラフィ【Deep Ultraviolet Lithography】

 deep UV光源(200nm~300nmの波長領域)の露光装置を用いて,フォトマスク・パターンを転写するフォトリソグラフィ技術.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

関連項目

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