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出典: くみこみックス

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窒化膜【Silicon Nitride】 <br> <br> 　選択酸化（LOCOS構造）のマスキング材料として，また保護膜（パッシベーション膜）として使用するSi3N4膜． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> == 関連項目 == * [[LOCOS]] * [[パッシベーション]] [[Category:組み込み技術全般|チッカマク]] [[Category:LSI|チッカマク]]

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