位相シフト・マスク

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位相シフト・マスク【Phase Shift Photomask】

　位相を変化させる位相シフタを設けて，これを通過した光と通過しない光の位相差を利用して解像度を向上させているフォトマスク．位相シフト・マスクと特殊照明などを組み合わせることによって，既存のステッパでも半導体プロセスの1世代先に相当する解像度を得ることができる．この目的で使われるマスクとして，レベンソン型位相シフト・マスクなどがある．

【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．