ペリクル

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:38の版 (ソースを表示) Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) M (1 版) ←前の差分		最新版 (2009年3月13日 (金) 08:08) (ソースを表示) Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録)
（間の 2 版分が非表示です）
6 行		6 行
	<br>		<br>
	【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．		【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
-		+	<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
	<br>		<br>
	<br>		<br>
-	[[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]	+	[[Category:組み込み技術全般|ヘリクル]] [[Category:LSI|ヘリクル]]

---

最新版

ペリクル【Pellicle】

　フォトマスク表面へのごみ付着防止の目的で，マスクの表面から数ミリ離して置いた，ごく薄い保護膜．ペリクル表面に付着したごみでも，ある程度の大きさまでは，ウェハ上に結像しない．マスク洗浄回数の減少やスループットの向上など，マスク寿命の延長に役立つ．材質は一般にニトロ・セルロース薄膜が使われている．

【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．