プロセス・シミュレーション

出典: くみこみックス

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最新版 (2009年3月13日 (金) 08:20) (ソースを表示)
 
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【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
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<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
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最新版

プロセス・シミュレーション【Process Simulation】

 ウェハ・プロセス技術に関与するところで,LSI製造条件を決定する際に用いる.熱工程やイオン打ち込み条件などを入力データとして,不純物濃度分布の予測やイオン注入条件などの最適化を行う.レジスト形状や仕上がり断面形状の予測などは,とくに形状シミュレーション,あるいはエッチング・シミュレーションと呼ぶ.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

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