ステッパ

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 03:00; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版
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ステッパ【Wafer Stepper】

 LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置.  従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して,ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける.レンズ縮小率が5倍の場合,フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ,微細パターンの形成においてその効果は大きい.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.



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