アイソレーション

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:40; Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) による版

アイソレーション【Isolation】

 シリコン・チップ内部のトランジスタがそれぞれ独立に動作するには,お互いが干渉しないための分離が必要となる.これをアイソレーションと呼ぶ.  シリコン基板上でのMOSFET素子分離(アイソレーション)には,PN接合に逆バイアスをかけて分離するPN接合分離法,誘電体によって分離するLOCOS構造などがある.最近は絶縁基板上にトランジスタを生成したSOI(Silicon on Insulator)なども用いられ始めている.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

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