スパッタ【Sputtering】 プラズマ中の正イオン（Ar+など）を加速し，膜形成すべき物質からなるターゲット材料に衝突させ，ターゲットから飛び出した物質をシリコン・ウェハなどの半導体基板に蒸着させて薄膜を形成する工程．PVD（物理的気相成長）の一つ． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
