EB露光装置（Electron Beam Exposure System） 電子ビームによって，CAD装置からのパターン・データを描画する装置．フォトマスク作成に用いる場合と，ウェハに直接描画する場合がある．描画方式には，すべての描画領域を走査するラスタ・スキャン方式，描画領域の必要な部分のみに矩形データなどを照射するベクタ・スキャン方式などがある． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
