CVD（Chemical Vapor Deposition） シリコン・ウェハなどの半導体基板上への薄膜形成工程で，気体を熱分解したり，化学反応させて，デポジション（堆積）する方法． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
