窒化膜【Silicon Nitride】 選択酸化（LOCOS構造）のマスキング材料として，また保護膜（パッシベーション膜）として使用するSi3N4膜． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
