出典: くみこみックス
アイソレーション【Isolation】
シリコン・チップ内部のトランジスタがそれぞれ独立に動作するには，お互いが干渉しないための分離が必要となる．これをアイソレーションと呼ぶ．
シリコン基板上でのMOSFET素子分離（アイソレーション）には，PN接合に逆バイアスをかけて分離するPN接合分離法，誘電体によって分離するLOCOS構造などがある．最近は絶縁基板上にトランジスタを生成したSOI（Silicon on Insulator）なども用いられ始めている．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
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