TEOS（Tetraethyl Orthosilicate） TEOSは室温でアルコール状の液体であるが，CVD（Chemical Vapor Deposition）法によって酸化膜を形成する．薄膜でもピン・ホールが少なく，膜品質がよいので，2層ポリシリコン間の絶縁膜などに使用される． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
