出典: くみこみックス
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低誘電率膜【Low Dielectric Constant Insulator】
LSI多層配線間を電気的に分離する絶縁膜が，低誘電率の材料で作られているもの．LSIの高速化にともなって，配線抵抗や配線容量の低減が要求されている．銅配線が配線抵抗を低減するのに対して，低誘電率の層間絶縁膜は配線容量の低減に寄与する．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
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