LOCOS（Local Oxidation of Silicon） MOSFET素子分離のための，シリコン酸化膜などを用いた誘電体分離法の一つ．CMOS構造のP型トランジスタとN型トランジスタの境界などに設ける． 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
