SOG
出典: くみこみックス
版間での差分
M (1 版) |
|||
4 行 | 4 行 | ||
チップ全体に基本ゲートを敷き詰めたチャネルレス型のゲートアレイ.SOGが登場する以前のゲートアレイは,基本セル領域(トランジスタ構成部)とチャネル領域(配線部)が明確に分離していた. | チップ全体に基本ゲートを敷き詰めたチャネルレス型のゲートアレイ.SOGが登場する以前のゲートアレイは,基本セル領域(トランジスタ構成部)とチャネル領域(配線部)が明確に分離していた. | ||
SOGでは,マスタ・チップ上において,基本セル領域とチャネル領域の区別がない.そのため,配置配線工程でいくつかの基本セルを配線領域としたり,多層配線プロセス(メタル3~5層)を用いることによって,基本セルの上部を配線が通過できる.チップの空き領域が少なくなり,集積度を上げることができる.さらに,ROM/RAMなどのブロックもセル領域に効率よく配置できる. | SOGでは,マスタ・チップ上において,基本セル領域とチャネル領域の区別がない.そのため,配置配線工程でいくつかの基本セルを配線領域としたり,多層配線プロセス(メタル3~5層)を用いることによって,基本セルの上部を配線が通過できる.チップの空き領域が少なくなり,集積度を上げることができる.さらに,ROM/RAMなどのブロックもセル領域に効率よく配置できる. | ||
+ | <br> | ||
+ | <br> | ||
+ | <br> | ||
+ | <center> | ||
+ | [[画像:lsi_f.gif]]<br> | ||
+ | <br> | ||
+ | '''図 SOG''' | ||
+ | </center> | ||
<br> | <br> | ||
<br> | <br> |
2009年3月16日 (月) 08:03の版
SOG(Sea of Gate)
チップ全体に基本ゲートを敷き詰めたチャネルレス型のゲートアレイ.SOGが登場する以前のゲートアレイは,基本セル領域(トランジスタ構成部)とチャネル領域(配線部)が明確に分離していた.
SOGでは,マスタ・チップ上において,基本セル領域とチャネル領域の区別がない.そのため,配置配線工程でいくつかの基本セルを配線領域としたり,多層配線プロセス(メタル3~5層)を用いることによって,基本セルの上部を配線が通過できる.チップの空き領域が少なくなり,集積度を上げることができる.さらに,ROM/RAMなどのブロックもセル領域に効率よく配置できる.
画像:Lsi f.gif
図 SOG
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.