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最新版
窒化膜【Silicon Nitride】
選択酸化(LOCOS構造)のマスキング材料として,また保護膜(パッシベーション膜)として使用するSi3N4膜.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
関連項目