OPC
出典: くみこみックス
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【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
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2009年3月13日 (金) 07:40の版
OPC（Optical Pattern Correction）
ウェハに投影されたパターンが，光近接効果によって変形することを想定して，あらかじめマスク・パターンに施しておく補正．位相シフト・マスクとともに微細化露光のための重要なマスク技術を担っている．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
