CVD
出典: くみこみックス
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最新版
CVD(Chemical Vapor Deposition)
シリコン・ウェハなどの半導体基板上への薄膜形成工程で,気体を熱分解したり,化学反応させて,デポジション(堆積)する方法.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.