スパッタ
出典: くみこみックス
版間での差分
M (1 版) |
M (1 版) |
||
(間の 1 版分が非表示です) | |||
6 行 | 6 行 | ||
<br> | <br> | ||
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月. | 【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月. | ||
- | + | <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> | |
<br> | <br> | ||
<br> | <br> |
最新版
スパッタ【Sputtering】
プラズマ中の正イオン(Ar+など)を加速し,膜形成すべき物質からなるターゲット材料に衝突させ,ターゲットから飛び出した物質をシリコン・ウェハなどの半導体基板に蒸着させて薄膜を形成する工程.PVD(物理的気相成長)の一つ.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.