ステッパ
出典: くみこみックス
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LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置． | LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置． | ||
従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい． | 従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい． | ||
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【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
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最新版
ステッパ【Wafer Stepper】
LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置．
従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい．
図 ステッパ光源と波長
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
