遠紫外線リソグラフィ

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:49の版 (ソースを表示) Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) M (1 版) ←前の差分		最新版 (2009年3月16日 (月) 01:32) (ソースを表示) Worker (会話 | 投稿記録)
12 行		12 行
	* [[ステッパ]]		* [[ステッパ]]
-	[[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]	+	[[Category:組み込み技術全般|エンセキカイセンリソクラフィ]] [[Category:LSI|エンセキカイセンリソクラフィ]]

---

最新版

遠紫外線リソグラフィ【Deep Ultraviolet Lithography】

　deep UV光源（200nm～300nmの波長領域）の露光装置を用いて，フォトマスク・パターンを転写するフォトリソグラフィ技術．

【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．

関連項目

• ステッパ