遠紫外線リソグラフィ
出典: くみこみックス
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遠紫外線リソグラフィ【Deep Ultraviolet Lithography】
deep UV光源（200nm～300nmの波長領域）の露光装置を用いて，フォトマスク・パターンを転写するフォトリソグラフィ技術．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
