プロセス・シミュレーション
出典: くみこみックス
版間での差分
(間の 1 版分が非表示です) | |||
11 行 | 11 行 | ||
- | [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]] | + | [[Category:組み込み技術全般|フロセスシミュレション]] [[Category:LSI|フロセスシミュレション]] |
最新版
プロセス・シミュレーション【Process Simulation】
ウェハ・プロセス技術に関与するところで,LSI製造条件を決定する際に用いる.熱工程やイオン打ち込み条件などを入力データとして,不純物濃度分布の予測やイオン注入条件などの最適化を行う.レジスト形状や仕上がり断面形状の予測などは,とくに形状シミュレーション,あるいはエッチング・シミュレーションと呼ぶ.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.