OPC

出典: くみこみックス

2009年3月13日 (金) 07:38の版 (ソースを表示) Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) M (1 版) ←前の差分		最新版 (2009年3月13日 (金) 07:50) (ソースを表示) Kumikomiadmin (会話 | 投稿記録) M (1 版)
（間の 1 版分が非表示です）
6 行		6 行
	<br>		<br>
	【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．		【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
-		+	<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
	<br>		<br>
	<br>		<br>

---

最新版

OPC（Optical Pattern Correction）

　ウェハに投影されたパターンが，光近接効果によって変形することを想定して，あらかじめマスク・パターンに施しておく補正．位相シフト・マスクとともに微細化露光のための重要なマスク技術を担っている．

【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．

関連項目

• 位相シフト・マスク