エキシマ・レーザ・ステッパ
出典: くみこみックス
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【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． | ||
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最新版
エキシマ・レーザ・ステッパ【Excimer Laser Stepper】
KrFエキシマ・レーザ（波長0.248μm）を用いたウェハ・ステッパ．従来の光方式ステッパと比較して，一段と微細な露光が可能であり，0.25μmプロセス以降の主力方式となっている．従来の光を用いたステッパ光源は，0.8μm時代がg線（波長は0.435μm），0.5μm時代がi線（0.365μm）であった．今後は，さらに短波長のArF（0.193μm）レーザ，F2（0.157μm）レーザが用いられる．
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
