エキシマ・レーザ・ステッパ

出典: くみこみックス

版間での差分
M (1 版)
6 行 6 行
<br>
<br>
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.
-
 
+
<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
<br>
<br>
<br>
<br>

2009年3月13日 (金) 07:40の版

エキシマ・レーザ・ステッパ【Excimer Laser Stepper】

 KrFエキシマ・レーザ(波長0.248μm)を用いたウェハ・ステッパ.従来の光方式ステッパと比較して,一段と微細な露光が可能であり,0.25μmプロセス以降の主力方式となっている.従来の光を用いたステッパ光源は,0.8μm時代がg線(波長は0.435μm),0.5μm時代がi線(0.365μm)であった.今後は,さらに短波長のArF(0.193μm)レーザ,F2(0.157μm)レーザが用いられる.

【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月.

関連項目

表示