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ステッパ - 変更履歴
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2009年3月16日 (月) 06:51 における Worker による編集
2009-03-16T06:51:49Z
<p></p>
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<tr valign='top'>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月16日 (月) 06:51の版</td>
</tr>
<tr><td colspan="2" class="diff-lineno">4 行</td>
<td colspan="2" class="diff-lineno">4 行</td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div> LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置．</div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div> LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置．</div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div> 従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい．</div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div> 従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい．</div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"><br></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"><br></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"><br></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"><center></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;">[[画像:lsi_f38.gif]]<br></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"><br></ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;">'''図 ステッパ光源と波長'''</ins></div></td></tr>
<tr><td colspan="2"> </td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins style="color: red; font-weight: bold; text-decoration: none;"></center></ins></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
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Worker
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Kumikomiadmin: 1 版
2009-03-13T07:50:01Z
<p>1 版</p>
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<tr valign='top'>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:50の版</td>
</tr>
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Kumikomiadmin
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2009年3月13日 (金) 07:40 における Kumikomiadmin による編集
2009-03-13T07:40:00Z
<p></p>
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<tr valign='top'>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:40の版</td>
</tr>
<tr><td colspan="2" class="diff-lineno">7 行</td>
<td colspan="2" class="diff-lineno">7 行</td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div>【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．</div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div>【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．</div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'>-</td><td style="background: #ffa; color:black; font-size: smaller;"><div> </div></td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins class="diffchange diffchange-inline"><!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --></ins></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
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Kumikomiadmin
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Kumikomiadmin: 1 版
2009-03-13T07:38:44Z
<p>1 版</p>
<table style="background-color: white; color:black;">
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<tr valign='top'>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:38の版</td>
</tr>
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Kumikomiadmin
http://mix.kumikomi.net/index.php?title=%E3%82%B9%E3%83%86%E3%83%83%E3%83%91&diff=6790&oldid=prev
2009年3月13日 (金) 03:00 における Kumikomiadmin による編集
2009-03-13T03:00:01Z
<p></p>
<p><b>新規ページ</b></p><div>ステッパ【Wafer Stepper】<br />
<br><br />
<br><br />
LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置．<br />
従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい．<br />
<br><br />
<br><br />
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．<br />
<br />
<br><br />
<br><br />
== 関連項目 ==<br />
* [[フォトマスク]]<br />
<br />
[[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]</div>
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