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エピタキシャル・ウェハ - 変更履歴
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Kumikomiadmin: 1 版
2009-03-13T07:49:56Z
<p>1 版</p>
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<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:49の版</td>
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Kumikomiadmin
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2009年3月13日 (金) 07:40 における Kumikomiadmin による編集
2009-03-13T07:40:00Z
<p></p>
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<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:40の版</td>
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<td colspan="2" class="diff-lineno">6 行</td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div>【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．</div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div>【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．</div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'>-</td><td style="background: #ffa; color:black; font-size: smaller;"><div> </div></td><td class='diff-marker'>+</td><td style="background: #cfc; color:black; font-size: smaller;"><div><ins class="diffchange diffchange-inline"><!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --></ins></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
<tr><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td><td class='diff-marker'> </td><td style="background: #eee; color:black; font-size: smaller;"><div><br></div></td></tr>
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Kumikomiadmin: 1 版
2009-03-13T07:38:40Z
<p>1 版</p>
<table style="background-color: white; color:black;">
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<tr valign='top'>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">←前の版</td>
<td colspan='2' style="background-color: white; color:black;">2009年3月13日 (金) 07:38の版</td>
</tr>
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2009年3月13日 (金) 03:00 における Kumikomiadmin による編集
2009-03-13T03:00:01Z
<p></p>
<p><b>新規ページ</b></p><div>エピタキシャル・ウェハ【Epitaxial Wafer】<br />
<br><br />
<br><br />
シリコン基板などの単結晶表面に，異なる比抵抗をもつ単結晶層をエピタキシャル成長させたウェハ．MOSFETのリーク電流を極力抑えなければならない64Mビット以降のDRAMなどに使用されている．リーク電流を少なくするためには，結晶欠陥をできるだけ除去することが重要である．MOSFETが構成される半導体基板表面の結晶性は，より完全なものが要求される．<br />
<br><br />
<br><br />
【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．<br />
<br />
<br><br />
<br><br />
== 関連項目 ==<br />
* [[エピタキシャル成長]]<br />
* [[抵抗率]]<br />
<br />
[[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]</div>
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