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出典: くみこみックス

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TEOS（Tetraethyl Orthosilicate） <br> <br> 　TEOSは室温でアルコール状の液体であるが，CVD（Chemical Vapor Deposition）法によって酸化膜を形成する．薄膜でもピン・ホールが少なく，膜品質がよいので，2層ポリシリコン間の絶縁膜などに使用される． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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