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出典: くみこみックス

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遠紫外線リソグラフィ【Deep Ultraviolet Lithography】 <br> <br> 　deep UV光源（200nm～300nmの波長領域）の露光装置を用いて，フォトマスク・パターンを転写するフォトリソグラフィ技術． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> == 関連項目 == * [[ステッパ]] [[Category:組み込み技術全般|エンセキカイセンリソクラフィ]] [[Category:LSI|エンセキカイセンリソクラフィ]]

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